荷蘭ISTEQ公司TEUS系列EUV光源

產(chǎn)品介紹：

ISTEQ公司開發(fā)了一種基于激光產(chǎn)生等離子體（LPP）的EUV光源。該光源具有ji高的亮度和ji高的穩(wěn)定性。它采用可自刷新的材料，無(wú)需中斷和更換燃料盒，因此持續(xù)運(yùn)行時(shí)間極長(zhǎng)。

ISTEQ公司為L(zhǎng)PP光源開發(fā)的燃料是針對(duì)特定應(yīng)用的光譜范圍而設(shè)計(jì)的。然而，對(duì)于掩模檢查的應(yīng)用，公司開發(fā)了一種高頻錫旋轉(zhuǎn)靶，已在全球范圍內(nèi)獲得專li。

產(chǎn)品特點(diǎn)：

·高亮度以及出色的穩(wěn)定性

·最少的碎片

·ji高的正常運(yùn)行時(shí)間

·高占空比和交鑰匙操作

·用戶友好的自動(dòng)化協(xié)議，確保系統(tǒng)平穩(wěn)運(yùn)行，沒有中斷的風(fēng)險(xiǎn)。

產(chǎn)品應(yīng)用：

·掩模和表面檢查：

·圖案掩模檢測(cè) (PMI)

·區(qū)域掩模檢測(cè) (AIMS)

·掩?？瞻讬z測(cè) (MBI)

·EUV 掃描儀檢

·材料科學(xué)

·晶圓檢查

型號(hào)參數(shù)：